募集要項
- 募集背景
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組織体制強化のための増員募集です。
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置のさらなる進展を進め、技術を次々に適用することによって需要に応えていく必要があります。
- 仕事内容
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電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
■業務内容
次世代装置の開発ポジションとして、装置の運用評価、描画結果に対して精度向上のためのビッグデータ解析、補正機能の検討や特許提案、製品化に至る顧客対応まで幅広く活躍いただきます。
■具体的には
次世代描画装置のシステム・要素開発
・装置の知識を習得しながら運用評価を行い、描画精度やスループットがシステム設計で定めた仕様通りかデータ解析を実施
・解析結果を他部署と共有し、原因調査と対策検討を早期に行って補正機能の検討や実装指示
・特許提案やパテントクリアランス対応
■業務の特徴
・他部署と協業して海外顧客への装置リリースに従事する業務となります。
・中長期的な次々世代描画装置システムに必要なキーパーツの要素開発も平行して行います。
次世代では実装できなくとも次々世代に間に合うよう先行してキーパーツの要素検討・設計、プロトタイプのPOC機（実証実験機）の立上げや評価を行う業務となります。
■出張について
担当する顧客によりますが、海外顧客への開発進捗報告やVOC（顧客の声）のキャッチアップを行うために、年3～4回程度、1週間程度の海外出張があります。
■フォロー体制
・OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
・各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
・1on1による業務支援（月1回、30分程度）もあります。
■働きがい
・電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。
フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。
また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込みになっています。
【将来的に従事する可能性のある仕事内容】
同社業務全般
【所属部署情報】
次世代装置開発担当として配属を予定しています。
組織人数：18名
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
◎周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くいらっしゃり、適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者としての成長が期待できる職場です。
- 応募資格
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- 必須
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半導体領域での技術業務経験、および以下いずれかのご経験をお持ちの方
・プロジェクトリーダー経験（数十名規模）
・英語での技術折衝経験
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
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■みなとみらいオフィス
勤務地住所：神奈川県横浜市西区みなとみらい4‐6‐2
アクセス：みなとみらい線「みなとみらい駅」より徒歩2分、各線「横浜駅」より徒歩12分
＜リモートワーク＞
一部リモートOK（出社要）
週1～2日
＜将来的に勤務する可能性のある場所＞
本社および全ての支社、営業所
海外現地法人を含む、同社各拠点
＜受動喫煙防止策＞
屋内に喫煙可能室設置
- 勤務時間
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フレックスタイム制 1日の標準労働時間：7時間45分
休憩時間：1時間
月平均残業時間：20時間
- 年収・給与
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年収：720～1610 万円
月給制
基本給：340000円～760000円
残業代：全額支給
通勤手当：あり 実費支給(上限なし)
賞与：あり 年2回（7月、12月）
昇給：あり 年1回（4月）
※昇格に伴う昇給は10月に実施
- 待遇・福利厚生
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福利厚生支援制度：教育・健康・懇親等に対し年間最大35万円の補助あり
独身者用、世帯主用借り上げ社宅制度あり（社宅に入らない場合は、住宅費補助、家賃補助あり）
定年60歳（再雇用65歳まで）、退職金制度（確定拠出年金）、企業年金、財形制度
東芝グループ保険制度（生保、損保）、選択型福祉制度「カフェポイント」（年間5万円分のポイント付与）
団体長期障害所得補償保険（GLTD）、保養所、健康診断、健康保健指導、教育研修制度 ほか
- 休日休暇
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【年間休日】125日
【休日内訳】 完全週休2日制 土曜日,日曜日,祝日,夏季休暇,年末年始休暇,特別休暇,育児休暇,産前・産後休暇,介護休暇
- 選考プロセス
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面接2回（筆記試験なし）
※選考フローは変動する可能性があります。
