募集要項
- 募集背景
- 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。
- 仕事内容
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同社にて、下記業務をお任せいたします。
【ミッション】
中長期を視野にどういったコンセプトの描画装置をリリースするか検討し、技術ロードマップを作成してシステム設計を行いプロジェクトをマネジメントして顧客に装置をリリースすること
【具体的な業務内容】
■次々世代描画装置のシステム・要素開発
次々世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通して装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。
※他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。また次々世代装置に必要なキーパーツの要素開発を先行して行うための企画検討を行う業務も兼ねます。
■次世代描画装置におけるシステム・要素開発
技術ロードマップから直近必要な次世代描画装置のシステム設計仕様をまとめ、他部署に要求仕様を提案し、開発の進捗管理、開発に必要な設備提案、開発されたシステムが仕様を満たしているか評価・検討して他部署やプロジェクトそのものをまとめあげるプロジェクトリーダー／マネージャー業務となります。
次世代装置を顧客や学会発表でプレゼンし、次世代装置に対するVOCをキャッチし、社内にフィードバックして装置性能を早期に向上させるミッションも重要な業務となります。
※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。
【働きがい】
発展が著しい半導体に関連する装置を扱っているため、自動運転やスマートフォンなどの技術革新に密接に関わっていることから、技術の根幹に携わることができるといったやりがいを感じることができます。
【将来的に従事する可能性のある仕事内容】
同社業務全般
【所属部署情報】
※現在17名が在籍中です。
- 応募資格
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- 必須
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・半導体製造装置のシステム開発経験をお持ちの方
・ビジネスレベルの英語力（目安TOEIC800以上）
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
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勤務地住所：神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
沿線名：京浜東北線「新杉田」駅から徒歩10分
＜将来的に勤務する可能性のある場所＞
勤務地変更なし
＜受動喫煙防止策＞
敷地内全面禁煙
- 勤務時間
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フレックスタイム制 1日の標準労働時間：7時間45分
休憩時間：1時間
月平均残業時間：20時間
- 年収・給与
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年収：800～1500 万円 月給制 基本給：370000円
残業代：全額支給
変動手当：住宅手当
通勤手当：あり 実費支給(上限なし)
賞与：あり 年2回（7月、12月）
昇給：あり 年1回（4月）
- 待遇・福利厚生
- 定年：60歳、再雇用：65歳まで、退職金制度（確定拠出年金）、企業年金、財形制度、東芝グループ保険制度（生保、損保）、借上げ社宅（適用条件有）※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間）、「ヒト」への積極投資「NFT-HEC」制度（健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助）、選択型福祉制度「カフェポイント」（年間5万円分のポイント付与）、団体長期障害所得補償保険（GLTD）、保養所、健康診断、健康保健指導、育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度、次世代育成手当、教育研修制度 ほか
- 休日休暇
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【年間休日】125日
【休日内訳】 完全週休2日制 土曜日,日曜日,祝日,夏季休暇,年末年始休暇,GW休暇,特別休暇
- 選考プロセス
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面接2回（筆記試験なし）
1次面接→最終面接
