募集要項
- 仕事内容
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半導体の絶縁膜形成プロセス技術開発に関わっていただきます。■業務概要：半導体の絶縁膜形成プロセス技術開発に関わっていただきます。
■業務詳細：
・絶縁膜（例えばシリコン酸化膜など）を形成するためのプロセス設計や条件最適化（温度、圧力、ガス組成など）を行います。
・成膜装置（ALD、CVD装置）の操作・保守・管理も行います。
- 応募資格
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- 必須
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・絶縁膜形成プロセス、要素開発業務の経験者
・ALD、CVD装置の設備開発、改善経験者
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 茨城県つくば市
- 勤務時間
- 9時～18時（休憩1時間）
- 年収・給与
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■想定年収：500万円～1,000万円 ※年棒制
(1)想定月給41万円～83万円（(2)の手当を含む額）
(2)時間外手当（時間外労働の有無に関わらず、45時間分の時間外手当を支給）
(3)45時間を超える時間外労働分についての割増賃金は追加で支給
- 待遇・福利厚生
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服装自由（全従業員利用可）
ストックオプション（一部従業員利用可）
その他手当：役職手当
- 休日休暇
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年間休日：120 日
完全週休二日制：土 日 祝日 GW 夏季休暇 年末年始
年間有給休暇：入社7ヶ月目には最低10日以上
