設計・開発エンジニア(自動車・輸送機器)
次世代装置開発リーダー(電子ビームマスク描画装置)【A-12】
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次世代装置開発リーダー(電子ビームマスク描画装置)【A-12】
の転職・求人情報はすでに掲載終了しております。(掲載期間6月5日~6月18日)

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掲載時の募集要項掲載期間:2024/06/05 ~ 2024/06/18)
設計・開発エンジニア(自動車・輸送機器)

次世代装置開発リーダー(電子ビームマスク描画装置)【A-12】

株式会社ニューフレアテクノロジー
転勤なし

募集要項

募集背景
コンサルタントより詳細をご説明させていただきます。
仕事内容
これまでのご経験を生かして活躍しませんか。
エンジニアの転職はメイテックネクストへご相談ください
〇電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
上流工程の研究開発、設計から事業化(製品化)に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。
海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。
具体的には、
・次世代描画装置のシステム・要素開発
└次世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通し、装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。
└他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。
・現行の描画装置におけるシステム・要素開発
└各グループの仕様に基づいた開発進捗の管理や、
開発されたシステムがその仕様に対して適しているか評価・検討を行います。
※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。
【ミッション】
描画装置の技術ロードマップを作成すべく、中長期間を視野にどういったコンセプトの描画装置をリリースするか検討いたします。
発展が著しい半導体に関連する装置を扱っているため、
自動運転やスマートフォンなどの技術革新に密接に関わっていることから、未だ世にない世界で初めての技術の根幹に携わることができるといったやりがいを感じることができます。
【採用背景】
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で
主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、
独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。
こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。
【組織構成】
・12名(電子光学設計担当、システム開発担当、プロセス管理担当など)
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。...
応募資格
必須
【必須】
・精密機器装置の製造プロセスに関する知見をお持ちの方(半導体以外の装置開発経験者も歓迎)
・英語を用いてお客様と円滑に技術的な会話をすることができる方
※海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため
【歓迎】
・研究機関や装置メーカーにおける研究職のバックグランドがある方
・メーカーにおいてマーケットの方向性や顧客志向を踏まえた次世代開発に従事した経験がある方
歓迎
応募資格をご覧ください。
フィットする人物像
応募資格をご覧ください。
雇用形態
正社員
勤務地
神奈川県
勤務時間
08:45~17:30
年収・給与
550万円~1100万円
■年収についての補足
※経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします
待遇・福利厚生
■諸手当
通勤手当全額支給、家族手当、役職手当、35歳までの独身借上社宅制度・世帯向け借上社宅制度有り、厚生施設、社内食堂、財形貯蓄制度、持株制度、退職金制度
■各種保険
健康保険 厚生年金 雇用保険 労災保険 介護保険 企業年金
休日休暇
完全週休二日制(土日)、祝日、年次有給休暇(初年度 入社時1~19日(入社月による)※最大24日 繰り越し含め最大48日)、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度
選考プロセス
■面接回数2■試験内容書類選考 ⇒ 1次面接 ⇒ SPI ⇒ 2次面接 ⇒ 内定

会社概要

社名
株式会社ニューフレアテクノロジー
事業内容・会社の特長
<<最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス>> ★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置:5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置:最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置:数μmから150μm以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置(パワー半導体の製造工程に使用されます)
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収:832万円
設立
2002年8月
資本金
64億8600万円
従業員数
799人
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また、より良い待遇条件で転職が決まるように条件面での交渉をしてもらえます。
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