プロジェクトマネージャー(機械・自動車)
【神奈川:リモート】技術マーケティング担当(半導体製造装置) ※土日休み ※年間休日120日以上
の転職・求人情報はすでに掲載終了しております。(掲載期間10月6日~10月27日)
※ 掲載時の募集要項はページ下部よりご確認いただけます。
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掲載時の募集要項(掲載期間:2026/10/06 ~ 2026/10/27)
プロジェクトマネージャー(機械・自動車)
【神奈川:リモート】技術マーケティング担当(半導体製造装置) ※土日休み ※年間休日120日以上
株式会社ニューフレアテクノロジー
海外展開あり(日系グローバル企業)
英語力が必要
募集要項
募集背景
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電子ビームマスク描画装置の長期的な事業計画を立案するために、最終ユーザである半導体製造メーカの動向を十分に理解し、反映させることが必要です。このためには、半導体製造技術の深い知識を有する人材が必要である。
仕事内容
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世界トップクラスの技術力!投資する魅力のある企業として注目されています!
【職務概要】
同社の主力製品である電子ビームマスク描画装置の技術マーケティング担当として、次世代・次々世代の装置開発に向けて、下記業務をお任せいたします。
・半導体デバイス/リソグラフィー技術の動向調査、各メーカの動向調査
・調査結果に基づいた、半導体技術のロードマップ作成やマスク技術ロードマップの作成
・上記調査結果を反映したマスク描画装置の将来的な戦略立案
【職務詳細】
・顧客との技術ディスカッション(デバイスメーカー、マスクメーカーなど)
・各デバイス/リソグラフィ関連学会への参加、情報収集及びロビー活動
・各種分析調査報告をもとにしたリソグラフィ、そしてデバイスの今後の動向調査
・上記動向調査結果から今後マスク描画装置に必要とされる技術の検討や、装置開発の方向性を議論、決定
・学会等での発表活動を通した社外への技術アピールのサポートや、会社のプレゼンスのアピール方法なども検討しそれを実行
<研修・教育制度>
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援(月1回、30分程度)もございます。
【業務内容変更の範囲】
会社の定める業務
応募資格
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- 必須
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【必須】
・半導体デバイスまたはリソグラフィ関連(マスク関連含む)技術のプロセス開発経験をお持ちの方
【尚可】
・ビジネスレベルの英語スキル(海外顧客とのディスカッションや学会参加のため)
<業務の魅力>
海外の学会や世界を代表する半導体メーカーとのディスカッションを通して、同社製品のみならず、半導体製造に関わる最先端技術に幅広く触れられる唯一のポジションです。最先端のメモリやロジックなどの将来動向を調査し、その製造において同社製品に求められる機能や技術を考え開発につなげていくといった、半導体製造装置の未来を創るお仕事です。
※海外の学会へ参加するために2カ月に1回程度1週間程度の海外出張の機会あり。
(状況により出張頻度や期間は異なります。)
- 歓迎
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※活かせる経験については上記「応募資格」欄に併記しております
- フィットする人物像
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・セルフスターターな方
雇用形態
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雇用形態:正社員
契約期間:無期
試用期間:有(6ヶ月)
勤務地
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神奈川県横浜市西区みなとみらい4‐6‐2
みなとみらい線「みなとみらい」駅徒歩2分
※社内規定により、利用路線によって通勤の際の降車駅が異なります。
勤務地変更の範囲:海外現地法人を含む同社各拠点
勤務時間
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8時45分~17時30分 ※フレックスタイム制あり
年収・給与
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年収:720万~1610万程度
月給制:月額340000円
給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇
賞与:年2回(7、12月)
昇給:年1回(4月)
待遇・福利厚生
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住居手当、厚生年金基金、退職金制度、交通費支給、家族手当、時間外手当、役職手当、厚生施設、社内食堂あり、社宅あり、財形貯蓄制度、持株制度、育児・介護休業制度、健康診断、フレックスタイム制
喫煙情報:屋内禁煙
休日休暇
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【年間休日125日以上】完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、夏季休暇、有給休暇(初年度1~19日、最大24日)、慶弔休暇、特別休暇、リフレッシュ休暇
選考プロセス
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書類選考 ⇒ 1次面接 ⇒ SPI ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
※状況により変更になる場合あり
キャリアパス・評価制度
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有給休暇が取りやすく、前日までに申請すれば基本的に取得できる環境です。柔軟に働けるフレックスタイム制、リモートワークも可能。
会社概要
社名
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株式会社ニューフレアテクノロジー
事業内容・会社の特長
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【事業内容】
■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売
【会社の特徴】
2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて
世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。
同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する
電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。
また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を
展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた
先端検査装置も実用化段階を迎えています。
設立
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2002年8月1日
資本金
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64億8600万円
売上高
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415億550万円(2018年3月期)
従業員数
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1144名
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