募集要項
- 仕事内容
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＜Photolithography 設備エンジニア (DUV Scanner)＞
＜職務概要＞
MicronTechnology，Inc.広島Fabにおいて、Photo（DUVScanner）エリアの装置エンジニアとして、量産ラインにおける露光装置の安定稼働、性能向上、歩留まり改善をリードしていただきます。
本ポジションでは、露光装置の構造・動作原理を深く理解した上で、装置起因の異常解析、再発防止、プロセス安定化を主体的に推進します。プロセスエンジニア、FAC、品質、ベンダー（装置メーカー）と密に連携し、量産環境における品質・生産性・コスト・リスクの最適化を担います。
＜職務内容>
■装置・量産安定化
・DUVScanner装置の構造・制御・光学系を理解した上での量産装置管理
・装置稼働率（Availability/Productivity）向上に向けた改善活動の立案・実行
・ベースライン維持、ドリフト管理、再現性確保に関する技術的リード
■トラブルシューティング・異常解析
・装置起因の異常に対する迅速な切り分け・原因特定・恒久対策
・故障解析、FMEA、8D等の手法を用いた再発防止活動
・複合要因（装置・プロセス・材料・運用）を考慮した問題解決
■装置・プロセス改善
・アライメント、フォーカス、露光量、オーバーレイ等の露光関連パラメータ最適化
・プロセス能力（Cp/Cpk）向上および製造コスト削減に向けた改善推進
・装置・ソフトウェアアップグレードの計画、導入、量産リリース対応
■立ち上げ・評価
・新規装置・改造装置の立ち上げ、量産認定（Baseline/Release）対応
・新材料・新プロセス導入時の装置観点での評価・リスク整理
・ベンダーとの技術ディスカッション、仕様レビュー、課題解決推進
■クロスファンクショナル連携
・プロセス、品質、FAC、EHS、サプライヤーと連携した改善活動
・品質・コスト・リスク管理目標達成に向けた監査・是正対応
- 応募資格
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- 必須
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【応募資格】
・理工系学士号、または同等の実務経験
・装置トラブルに対し、構造・原理に基づいて原因を考え抜ける問題解決力
・日本語での業務コミュニケーション能力（読み書き・会話）
【歓迎要件】
・Lithography/Photo/DUV Scanner装置の実務経験
・半導体製造装置エンジニアとしての実務経験
・量産Fabにおける装置立ち上げ、安定化、異常解析の経験
・装置メーカー（例：ASML等）との技術折衝・共同トラブル対応経験
・FMEA、SPC、8D等を用いた体系的な改善活動の実践経験
・英語での業務コミュニケーション能力（読み書き・会話）
・UsingAI
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 広島県
- 年収・給与
- 500～1500万円
