募集要項
- 募集背景
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■増員募集
半導体や液晶ディスプレイの製造に不可欠なフォトレジスト（感光性樹脂）や高純度化学薬品を手掛けている同社。
特に、半導体の微細加工に欠かせないフォトレジストの分野では世界トップクラスのシェアを誇り、プライム市場に上場する安定企業です。
今回は、今後の更なる事業拡大を見据え、新規材料を用いたレジスト開発を強化するための増員募集。
合成スキルを持つ新たな仲間を迎え、組織体制の強化を図ります。
- 仕事内容
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世界トップクラスのシェアを誇る同社の半導体用フォトレジスト。
その性能を決定づける、ArFレジスト材料の合成（特に低分子）をご担当いただきます。
■仕事内容
＜お任せする業務＞
半導体の微細加工に不可欠な「ArFレジスト」に使われる、新規材料の合成業務をご担当いただきます。
特に、低分子の有機合成が中心となります。
＜扱う商材＞
同社が世界トップクラスのシェアを誇る「半導体用フォトレジスト」です。
この材料の性能が、半導体の集積度や性能を左右する重要な役割を担っています。
◎最先端技術が集約される「TOK技術革新センター」が勤務地です。常に新しい技術や情報に触れながら、開発に没頭できる環境が整っています。
■働きがい
半導体の性能向上は、スマートフォンやPC、自動車など、あらゆる電子機器の進化に直結します。
自身が合成した材料が、次世代の半導体を生み出し、世界中の人々の生活をより豊かにしていく。
そんな、技術の進化と社会の発展に直接貢献しているという大きな手応えを感じられる仕事です。
【将来的に従事する可能性のある仕事内容】
同社業務全般
【所属部署情報】
先端材料開発担当として配属予定です。詳細は面接にてお伝えします。
- 応募資格
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- 必須
- 低分子の有機合成に関する実務経験または知識がある方（経験年数不問）
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
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■TOK技術革新センター
神奈川県高座郡寒川町田端1590
JR相模線「寒川駅」徒歩30分、またはバス（寒川駅南口から「茅ヶ崎駅行」に乗車、「東京応化工業前」で下車後、徒歩1分）
＜将来的に勤務する可能性のある場所＞
本社および全ての支社、営業所
※将来的に、同社およびグループ会社の各事業所へ変更となる場合があります。
＜受動喫煙防止策＞
屋内全面禁煙、屋外に喫煙所を設置
- 勤務時間
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フレックスタイム制 1日の標準労働時間：7時間45分
休憩時間：1時間
コアタイム：あり 10:00～15:00
月平均残業時間：16時間24分
- 年収・給与
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年収：530～740 万円
月給制
基本給：280000円～340000円
残業代：全額支給
変動手当：役職手当
住宅手当
家族手当
月給280,000円～340,000円
通勤手当：あり 実費支給(上限なし)
賞与：あり 年2回（前年度実績7.13か月分）
昇給：あり 年1回（4月）
- 待遇・福利厚生
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・健康保険組合
・企業年金基金
・社員持株会
・財形貯蓄
・住宅援助金制度
・独身寮（入寮条件あり）
・各種クラブ活動
・食費補助
・退職金制度
・旅行補助金
- 休日休暇
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【年間休日】123日
【休日内訳】 完全週休2日制 土曜日,日曜日,祝日,夏季休暇,年末年始休暇,GW休暇,産前・産後休暇,育児休暇,介護休暇,特別休暇
- 選考プロセス
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面接2回（筆記試験＋適性検査あり)
書類選考→1次面接→最終面接→内定
※選考フローは変動する可能性があります
