募集要項
- 募集背景
- 事業拡大による人員増員
- 仕事内容
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【仕事内容】
エピタキシャル以外の化合物半導体ウエハプロセス領域（フォトリソ、エッチング等）において、
高信頼・高歩留りな光デバイス製造を実現するプロセス開発・改善を主導します。
・光デバイスウエハプロセスの工程改善・歩留向上・生産不具合解析
・新規ウエハプロセス技術の探索・設計・量産立上げ
・露光装置（縮小投影露光機）や電子線描画装置を用いた微細加工工程の最適化
・新規導入装置の技術選定・評価・立上げ・量産移行支援
・他プロセスエンジニア／設計／製造／品質部門との横断的な課題解決推進デバイス開発/製造におけるエピタキシャル以外のウエハプロセス工程業務
【職務】
本職務は、AI/HPC時代に求められるTbps級データ処理を光で実現する中核技術を担います。
微細加工・材料制御・工程安定化の一つひとつが、
世界中のデータセンタやAIチップ間通信の性能に直結する社会的意義を持ちます。
“プロセス改善＝産業の通信インフラ性能を引き上げる”
という、極めてダイレクトな価値創出を体感できるポジションです。
- 応募資格
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- 必須
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必須経験・スキル
・半導体デバイスの開発または製造工程における実務経験3年以上
・半導体ウエハプロセス（エッチング／リソグラフィ／金属膜形成／パッシベーション/蒸着等）経験
・工程改善活動（歩留向上・不良解析・統計的工程管理等）の経験
・英文メール／技術ドキュメント
- 歓迎
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歓迎経験・スキル
・プロセスリーダーまたはサブリーダーとしてチームマネジメント／後進育成経験を有する方
・電子線描画装置／縮小投影露光装置／ICPエッチング装置／CVD装置等の立上げ経験
・光デバイス特性（波長、光出力、反射耐性、歩留り）とプロセス要因の相関解析スキル
・英語での技術議論、会議やプレゼンテーションができる方
- 募集年齢(年齢制限理由)
- 定年年齢６０歳 （定年年齢を上限として募集するため）
- フィットする人物像
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・現場課題を自ら抽出し、改善をリードできる能動的エンジニア
・製造・設計・品質を横断して技術的合意形成を進められる対話力と論理性
・「電子では届かない速度領域を、光で切り拓く」というミッションに共感できる方
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
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• 神奈川県相模原市中央区小山４－１－５５
基本的に高尾勤務予定
- 勤務時間
- 9:00-17:30（休憩45分）
- 年収・給与
- ７５０万円～１３００万円
- 待遇・福利厚生
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形貯蓄、カフェテリアプラン等有
【住宅手当】
・対象： 単身３０歳を迎える誕生月まで。または単身赴任者
・最大25,000円
【既婚者住宅手当】
・対象：借り主である物件。40歳を迎える誕生月まで。
・最大40,000円
●屋内喫煙室あり
- 休日休暇
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完全週休二日制（土日祝）
年間休日125日
- キャリアパス・評価制度
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【キャリアプラン】
本領域は、今後5年で世界的に人材希少性が急上昇する「光I/Oウエハプロセス技術」です。
電子から光への転換が本格化する中、光デバイスプロセスの理解と改善実績を持つ技術者は、
グローバル市場で競争力の高いキャリアを築くことができます。
日本ルメンタムでは、設計～量産の距離が極めて近い環境下で、
自らの提案を即実装できる意思決定スピードを経験できる点も大きな魅力です。。
