募集要項
- 募集背景
- 増員
- 仕事内容
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【パソナキャリア経由での入社実績あり】【ミッション】
〇エピタキシャル成長製造装置開発の成膜のプロセス開発を行っていただきます。
【具体的には】
〇エピタキシャル成長製造装置開発の成膜のプロセス開発を行っていただきます。
・シリコン、GaN、SiC膜の成膜方法（レシピ）の開発と測定機による評価
・装置の開発、客先でのデモンストレーション、メンテナンス、トラブル対応
・プロセスに関する客先でのプロセス仕様打合せ、装置立上、客先でのプロセス支援
※海外顧客の場合海外出張いただき、顧客先でレシピの調整を行います
〇エピタキシャル成長製造装置の特徴
（１）ウェーハの高速回転による高速かつ均一性の高い成膜
（２）緻密に設計された垂直方向のガスフローによる均一なガス濃度分布
（３）高精度な面状ヒーターに非接触で配置することで高い温度均一性と高速昇降温特性
上記コア技術が実現することで高品質エピタキシャル成長層の形成を可能としております。
プロセス担当はこれらコア技術が顧客要望通り実現しているかを測定器などを使用して検証し、エラーの原因はレシピなのかハードなどかを突き詰め改善を行っていきます。
【業務で使用するツール】
・プロセス
測定機操作 （SEM、欠陥検査、膜厚、XRD等）
【入社後お任せしたい業務】
・プロセス
上記業務内容を先輩社員がOJTでついて教育を行いながら、デモ機をもとに装置の扱い方やレシピの開発・調整方法をキャッチアップいただきます。
【組織構成】
組織構成：約30名
メンバーの半数以上がキャリア入社、20代・30代が6割を占めている組織となります
組織のミッション：
エピタキシャル半導体製造装置は現在国内外の顧客より多くの注文をいただいておりますがこの販売台数を最大化することがミッションとなっております。拡大のためには、顧客先ごとで成膜で使用するガスの種類が異なっているためがプロセスが異なるため、顧客ごとにニーズを満たすレシピの作成・プロセスを立ち上げることが重要となっております。
さらに今後はウェハーのサイズが大きくなることから、自動搬送のニーズが高まり、
自動…
- 応募資格
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- 必須
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・半導体製造装置（CVD装置）での成膜経験がある方。
・長期出張（国内外）が可能な人。
※応募の際は証明写真必須となります。
- 歓迎
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・半導体製造装置（CVD装置）で使用されるガスや、真空装置の取り扱い経験がある方。
・英語でのコミュニケーションが可能な方。
- フィットする人物像
- 応募資格をご覧下さい
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 神奈川県
- 勤務時間
- 08:45～17:30
- 年収・給与
- 420万円～1300万円
- 休日休暇
- 完全週休二日（土日） 祝日、夏季休暇、年末年始休暇、有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日）、慶弔休暇、特別休暇
