募集要項
- 仕事内容
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25-1-31 半導体プロセス研究
【業務内容】
同社製品ピュアオゾンジェネレーターを用いた新規半導体エッチングプロセスの技術開発研究
【対象製品】
ピュアオゾンジェネレータ
【業務詳細】
デジタル化加速に伴う成長戦略として、特長製品であるオゾンを液化・蓄積し、連続で高純度オゾンガスを供給するピュアオゾンジェネレータの半導体製造分野への適用拡大を目指しております。
人材強化のためにピュアオゾンジェネレータを先端プロセス技術として広く普及できるよう、開発を一緒に取り組んでいただける人材の募集をしています。
・お客様や研究機関との打合せや学会発表を通して、先端半導体製造プロセス分野を中心に市場動向・ニーズをとらえ次
世代技術のアイディア発想～立案・開発を行っていただきます。
・100%高濃度オゾンを使用した酸化膜等のプロセス開発・検証・評価および社外講演・技術交流活動
・成膜装置（ALD等）、エッチング装置等のプロセスレシピ開発および検証用機製作
・学会研究会発表時に動向情報収集分析およびプロセス開発方針策定、必要に応じて検証用簡易試作機の設計/製作手配
・開発環境は社外設備利用につき1ヶ月の約1/3は関東圏内に宿泊を伴う出張でプロセス装置操作や試作を実施
- 応募資格
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- 必須
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【必須条件】
・半導体のプロセス開発に携わった経験がある方、または半導体製造に関連する業務経験がある方（関連研究内容での大学研究室在籍での学位取得で代替可）
・社内外問わずコミュニケーションがとれる方
【歓迎条件】
・物理化学系の基礎知識をお持ちの方
・オゾンプロセス開発に興味のある方
・SEM観察、各種組成分析・解析、各種電気特性分析・解析、膜質分析・解析(分光エリプソメーター、X線等) の経験のある方
・学会発表や論文投稿の経験がある方（海外への投稿機会もありTOEIC500点以上の英語が望ましいです）
・半導体製造DX・インフォマティクス分野に興味がある方、生成AIツールやPython等によるデータ整理経験がある方歓迎します。
【専攻】
半導体物理または半導体材料を扱う化学分野
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 東京都
- 年収・給与
- 446～1517万円
