募集要項
- 仕事内容
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【職務内容】
本ポジションは、設計データを受領してからフォトマスクへと落とし込むMDP（Mask Data Preparation）工程、および光近接効果補正（OPC）を担います。
【担当していただく業務内容】
2nm以降の先端LSIロジック製造における、マスクデータ作成（MDP）およびOPC（光近接効果補正）プロセスの構築・運用を担当していただきます。
(1)【具体的な業務】
■OPC（Proteus，Calibre等）およびMDPツールを用いた、マスクデータの生成・検証・品質管理
■Python，Perl，bashを用いた、データ変換フローおよび検証プロセスの自動化ツールの開発
■システム不具合や検証エラーに対する原因究明および回避策の策定、問題解決の補助 など
(2)【環境・ツール】
対象製品：最先端2nm/Beyond 2nm ロジックLSI向けフォトマスク
使用ツール：ProteusOPC，CalibreOPC，T-Flex，Virtuoso，Linux環境，Python/Perl/Shell など
- 応募資格
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- 必須
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【必要なスキル経験】
■Python，Perl，bash，bsh，csh等でのスクリプト作成経験（3年程度）
■Linux操作経験（3年程度）
■業務手順書に沿って実行し、実行内容、検証内容を理解して結果をまとめられる
■業務プロセスをヒアリングし、実行手順書を作成・改善出来る
■OPCツール（ProteusOPC， CalibreOPC， T-Flex)によるOPC処理、検証経験
■EDA（Electronic Design Automation）ツール(※1)を使用した半導体設計・検証経験
※1...Virtuosoなどのレイアウトツールを使用したレイアウト経験なら尚良し
■複数工程に跨る手順、プログラム、システム、データベースを理解し改善の提案・実行が出来る
■PC操作（中級以上）
■Excel、PowerPoint、Word（中級以上）
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 東京都
- 年収・給与
- 500～700万円
