募集要項
- 仕事内容
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【職務内容】
本ポジションは、最先端の試作ラインにおいて、RIE、CVD、WETといった基幹装置を駆使し、プロセス開発の最前線を担います。
【担当していただく業務内容】
最先端半導体製造ラインにおける試作ウェハの開発およびプロセス最適化に従事していただきます。
RIE（反応性イオンエッチング）、CVD（化学気相成長）、WET（洗浄・湿式エッチング）等の担当設備を用いたWafer流動オペレーションを行います。
(1)【具体的な業務】
■RIE、CVD、WET等の製造装置を用いたウェーハ処理およびプロセス条件の制御
■顕微鏡および物理計測装置を駆使した、試作ウェーハの表面状態、膜特性の精緻な評価
■評価結果に基づくプロセスパラメーターの最適化と改善策の実行、文書化 など
(2)【環境・ツール】
対象製品：最先端ロジックウェーハ、アドバンスドパッケージ試作品
使用ツール：CVD装置、RIE装置、WET洗浄装置、光学・電子顕微鏡、膜厚計 など
- 応募資格
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- 必須
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【必要なスキル経験】
■PVD・CVD設備を扱った業務経験（1年程度）
■半導体製造・開発プロセスに関する基礎知識を有している
■積極性があり、周りの方との円滑なコミュニケーションが取れる
■アドバンスドパッケージ製造・開発の業務経験
■RIE・CVD・WET設備を扱った業務経験
■電気工学基礎の知識
■半導体プロセス基礎の知識
■材料工学基礎の知識
■PC操作スキル（初級レベル）
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 北海道
- 年収・給与
- 500～700万円
