募集要項
- 仕事内容
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管理職クラスとして電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務。次世代装置の開発ポジションとして、装置の運用評価、描画結果に対して精度向上のためのビッグデータ解析、補正機能の検討や特許提案、製品化に至る顧客対応等。《具体的には》■次世代描画装置のシステム・要素開発：装置の知識を習得しながら運用評価を行い、描画精度やスループットがシステム設計で定めた仕様通りかデータ解析を行います。解析結果を他部署と共有し、原因調査と対策検討を早期に行って補正機能の検討や実装指示、および特許提案やパテントクリアランス対応等。他部署と協業しての海外顧客への装置リリースに従事。
- 応募資格
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- 必須
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【必須】■半導体領域での技術業務経験
・要素開発／設計／評価／解析のいずれかの実務経験
(例：リソグラフィ、エッチング、アッシング、CMP、成膜、装置制御等)
上記に加え以下いずれかのご経験
■プロジェクトリーダー経験
・数十名規模の技術プロジェクトでのリーダー経験
（進捗管理、技術判断、他部門・顧客との調整等）
■英語での技術折衝経験
・海外顧客と、技術要件・仕様のすり合わせを行った経験
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 神奈川県横浜市西区
- 年収・給与
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想定年収1170～1610万円
月給￥520,000～￥760,000 基本給￥520,000～￥760,000を含む/月
■賞与実績:年2回
- 休日休暇
- 年間休日128日
- 選考プロセス
- 面接回数2回
