募集要項
- 募集背景
- 増員
- 仕事内容
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【パソナキャリア経由での入社実績あり】・露光機（ArF、EUV等）のレシピ開発・最適化（アライメント、フォーカス、ドーズ、マスク補正など）
・リソグラフィ工程の精度・安定性向上に向けたアプリケーション活用
・CD・Overlay・Focus等のプロセスウィンドウ評価・改善
・装置メーカーとの技術折衝・共同検討
・プロセスデータの収集・解析・フィードバック（JMP、Python等）
・製造・プロセス部門との連携による工程改善・歩留まり向上支援
【期待する役割】
Rapidusの先端半導体製造において、露光機のレシピ・アプリケーションを活用し、リソグラフィプロセスの精度・性能向上を推進する技術開発業務を担当いただきます。
装置メーカーとの連携や工程改善を通じて、歩留まり・生産性の向上に貢献していただきます。
【配属部署】
技術開発統括部
【魅力】
■国内最大級の開発に携わり、日本を背負う産業に関わるチャンスです。
■ゆくゆく上場を目指しているため大型上場に関わることもできる予定です。
【定年】65 歳
※65 歳以降有期契約による継続雇用有
【Rapidus社とは】
元東京エレクトロン会長の東様が発起人となり、キオクシア、ソニー、ソフトバンク、デンソー、トヨタ自動車、NEC、NTT、三菱UFJ銀行が出資し、海外では2nm技術を有する米IBMおよびEUV露光装置技術を持つベルギーimecとの協力体制構築、国内では技術研究組合最先端半導体技術センター（LSTC）との連携によりサムスン社やTSMC社でも成しえていないbeyond 2nmを掛け声に同社は設立されました。
この度2027年に次世代半導体生産を目指し、キャリア採用を加速させております。
- 応募資格
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- 必須
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・半導体業界における露光工程の技術開発経験
・露光機のレシピ設定・アプリケーション活用経験
・CD・Overlay・Focus等のプロセスパラメータの評価・改善経験
・JMP、Pythonなどを用いたデータ解析スキル
・日本語：ビジネスレベル、英語：読み書き可能なレベル
- 歓迎
- 応募資格をご覧下さい
- フィットする人物像
- 応募資格をご覧下さい
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 北海道
- 勤務時間
- 09:00～17:30
- 年収・給与
- 600万円～1000万円
- 休日休暇
- 完全週休二日（土日） 創立記念日（8月10日）、年次有給休暇（初年度６日～10日、勤続年数に応じて最大20日）
