募集要項
- 募集背景
- 増員
- 仕事内容
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【職務内容】
≪概要≫
■同社の半導体前工程開発において、成膜プロセス技術の最前線で活躍していただきます。
■特にCVD（Chemical Vapor Deposition）、ALD（Atomic Layer Deposition）技術を活用した成膜プロセスおよび材料開発を主な業務とし、新規材料やデバイス構造への対応を目指します。
≪詳細≫
■新規金属有機化合物や無機化合物の設計・合成
■CVD/ALDプロセスの設計・最適化、及び新規材料開発
■材料メーカー及び装置メーカーとの連携による共同研究・評価
■デバイス性能向上を目的とした成膜特性評価などの業務を行っていただきます。
【働き方特徴】
■年数回の国内・海外出張あり
■フレックス制度導入により個人に合わせた仕事スタイル
【この仕事の面白さ・魅力】
薄膜技術を使った新規商品を自ら考案した新規材料と成膜プロセスで作り出し、将来のムラタを支える新規商品にすることで大きなやりがいを実感することができます。
- 応募資格
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- 必須
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■半導体プロセス技術経験・知見
■海外拠点と技術的なやりとりができる英語力
※目安：TOEIC600点以上、流暢でなくて可
- 歓迎
- ■電気回路に関する基礎知識
- フィットする人物像
- 応募資格をご覧下さい
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 滋賀県
- 勤務時間
- 09:00～17:30
- 年収・給与
- 500万円～900万円
- 休日休暇
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完全週休二日（土日） 祝日 ※同社カレンダーに基づく
夏期休暇、お盆、年末年始、GW、有給休暇、半日有給休暇、慶弔休暇、産休・育児休暇、介護休暇、特別休暇、自己啓発支援特別休暇、自己実現特別休暇
