研究・開発(化学・素材・食品・衣料)
GE11_半導体材料 - フォトレジスト材料開発・材料評価技術開発
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掲載期間:25/11/24~25/12/07求人No:GREF-GR240531W2
研究・開発(化学・素材・食品・衣料)

GE11_半導体材料 - フォトレジスト材料開発・材料評価技術開発

海外展開あり(日系グローバル企業) 上場企業 大手企業 土日祝休み
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募集要項

仕事内容
ヘルスケア、エレクトロニクス、イメージングの各分野で先進的な独自技術開発で事業拡大している当社での半導体材料 - フォトレジスト材料開発・材料評価技術開発
半導体材料事業は、長年培ってきた銀塩写真感光材料技術に立脚したリソグラフィー技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在では、リソグラフィー分野から半導体材料/電子材料全般への研究拡大を図っています。
当組織では、独自性と顧客価値の高い先端リソグラフィー関連材料を開発することにより、社会課題を解決し、半導体業界の成長に貢献していきます。

◇半導体製造用リソグラフィー関連材料の開発を担っていただきます。
<具体的には>
(1)リソグラフィー関連材料処方開発者
 EUVやArFレジストに代表されるリソグラフィー関連材料(現像液等を含む)の処方開発、および商品化
(2)リソグラフィー関連材料評価技術者
 EUVやArFレジストに代表されるリソグラフィー関連材料(現像液等を含む)の評価技術の開発

【仕事の魅力】
・当社の技術重視の組織風土の中で、関連部門(素材技術、解析技術、DX関連技術、プロセス技術、製造技術)の支援を得ながら、先端半導体材料開発に携われます。
・国内外の顧客(半導体デバイスメーカー)向けに、パートナー(製造装置/原料メーカー等)や当社海外拠点と協業する中で、グローバルな活躍とスキルアップを図れます。
・当社の多様な事業領域で培った技術基盤と安定した経営基盤のもと多角的かつ長期的なキャリア形成が可能です。

(従事すべき業務の変更の範囲)当社業務全般
応募資格
必須
・大卒以上
(1)リソグラフィー関連材料処方開発者
・半導体関連材料もしくは高機能電子材料の開発経験
・有機化学に関する幅広い知識を保有し、フォトレジスト等のリソグラフィー関連材料の開発に興味がある方
(2)リソグラフィー関連材料評価技術者
・半導体デバイス製造および装置製造における、フォトリソグラフィ工程の各種プロセス開発、および実験の経験
・半導体製造における欠陥検査技術、もしくは歩留り改善のための解析技術
雇用形態
正社員
試用期間6ヶ月(同一条件)
勤務地
静岡県榛原郡吉田町、神奈川県開成町
(就業場所の変更の範囲)本社及び全国の拠点
勤務時間
神奈川(南足柄、開成町、小田原)、静岡(富士宮、吉田町)
始業終業  8:20-16:45
コアタイム 10:20-14:45
年収・給与
会社規定による(800万円以上経験による)
待遇・福利厚生
確定給付企業年金、確定拠出年金、社会保険、共済会、財形貯蓄、持株会、住宅融資、育児休暇、介護休暇、看護休暇、介護休暇、アクティブライフ休暇、ボランティア休職、私事休職・再入社、結婚・出産祝い金、出産一時金、短時間勤務制度、新幹線通勤補助、契約ホテル/レジャー施設/スポーツ施設など
受動喫煙防止措置:敷地内禁煙
休日休暇
完全週休2日、夏休み、年末年始など年間125日
年次有給休暇、ストック休暇 など

会社概要

社名
非公開
事業内容・会社の特長
ヘルスケア(メディカルシステム、バイオCDMO、LSソリューション)、エレクトロニクス(半導体材料、ディスプレイ材料、その他エレクトロニクス材料)、イメージング(コンシューマーイメージング、プロフェッショナルイメージング)に関わる製品・サービスの提供
設立
2006
資本金
40,000百万円
従業員数
(連結)39,010名
入社実績
Aさん(30歳 / 男性)
技術
Bさん(32歳 / 男性)
技術
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グローバルリファイン株式会社
厚生労働大臣許可番号:13-ユ-304885紹介事業許可年:2011年1月
設立
2010年10月
資本金
500万円
代表者名
代表取締役 川野辺 晃生
従業員数
法人全体:8名

人紹部門:8名
事業内容
・有料職業紹介(人材紹介・転職支援)
・人材採用に関わるコンサルティング業務
・人材採用、人材募集代行業務
厚生労働大臣許可番号
13-ユ-304885
紹介事業許可年
2011年1月
紹介事業事業所
東京都千代田区神田
登録場所
本社
〒101-0047 東京都千代田区内神田二丁目6番2号 矢板ビル3階
ホームページ
https://www.g-refine.co.jp
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