募集要項
- 募集背景
- 開発力強化の為
- 仕事内容
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半導体製造プロセス用洗浄液(特にCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリー)の薬液処方開発および市場導入、量産品の課題解決を担っていただきます。
【担当職務】
半導体製造プロセス用洗浄液事業において、薬液開発、国内および海外の幅広い顧客対応(顧客ニーズ把握～商品企画～顧客への導入～量産品立ち上げ)を担っていただきます。
＜職務内容＞
・薬液開発(※海外関係会社と協業、MI(マテリアルインフォマティクス)/LA(ラボラトリー
オートメーション)活用)
・国内外の顧客、顧客候補とのコンタクトを通じた顧客ニーズのリサーチ
・顧客ニーズに対応した評価系探索・構築
・顧客への新製品導入活動
・量産品立ち上げ
【仕事の魅力】
半導体製造プロセスにおいて洗浄工程は欠かせぬ工程であり、歩留まり向上のためのキープロセスとなります。前工程・後工程関わらず、半導体の微細化・市場の成長に伴って洗浄薬液の課題やニーズが増えており、今後も技術革新が期待されています。洗浄工程は直前の工程により洗浄対象が変化するため、顧客との議論・情報収集が重要であり、その情報に基づく、評価系構築～薬液開発～量産立ち上げ、という一連の研究開発プロセス全てに関わることができます。
また、CMP(化学機械研磨)工程においては、研磨液開発チームとCMP後洗浄液開発チームがグローバルな共同開発体制を構築し、Total solutionとしてCMP関連材料(スラリー＋洗浄液)を開発しているため、日常的に海外との協業が行われており、アメリカ・台湾への海外駐在のチャンスもあります。近年は、MI(マテリアルインフォマティクス)・LA(ラボオートメーション)の活用も積極的に進めており、化学の知識に加え、統計学・計算化学・プログラミングのスキルを持つ方は、活躍の場が用意されています。
- 応募資格
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- 必須
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・以下いずれかの経験を有する方
1.半導体分野におけるCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリーに関する薬液開発経験
2.MIまたはLAを利用した高機能材料の開発経験
・オーナーシップ、コミュニケーション能力、迅速な行動力、的確な判断力を有する方
- 歓迎
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・半導体プロセス装置を使用した開発経験または知識を有する方
・顧客サポート対応、顧客との協業体制の構築、商品化/事業化の経験を有する方
・海外顧客との打合せで概要把握や議論ができるレベルの英語力を有する方
・MIやLAなどの知見・興味を有する方
・半導体設備の評価選定、仕様調整、導入経験を有する方
・特許出願業務の経験を有する方
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 神奈川県開成町
- 勤務時間
- フレックスタイム
- 年収・給与
- 当社規定(目安：500～1300万円位)
- 待遇・福利厚生
- 健康保険等各種制度完備 社宅・独身寮・保養所、等
- 休日休暇
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完全週休二日制
夏期休暇・年末年始・クリエイティブ休暇、
- 選考プロセス
- 面接は原則２回
