アプリケーション開発エンジニア(制御・組み込み系)
【半導体製造装置のソフト開発設計職/神奈川県横浜市】◎転勤なし◎完全週休2日制■450~650万円
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掲載時の募集要項(掲載期間:2024/12/13 ~ 2024/12/26)
アプリケーション開発エンジニア(制御・組み込み系)
【半導体製造装置のソフト開発設計職/神奈川県横浜市】◎転勤なし◎完全週休2日制■450~650万円
土日祝休み
募集要項
募集背景
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今回ご紹介する企業は、2002年に東芝機械株式会社から半導体装置事業を継承して創業いたしました。
以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置を開発・提供し、半導体産業の発展に貢献してまいりました。
今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。
同社は、半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。
2020年4月東芝デバイス&ストレージ社株式会社の100%子会社となりました。
仕事内容
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■半導体製造装置のソフト開発設計職
■半導体製造装置のソフト開発設計職
・電子線マスク検査装置の検査ソフトウエアの開発・設計業務
・DUVマスク検査装置の検査ソフトウエアの開発・設計業務
・上記マスク検査装置の機器制御・通信ソフトウェアの開発・設計業務
・欠陥検査アルゴリズムのソフトウェア実装及び検証業務
※入社時はスキル、経験を考慮して上記業務のいずれかを担当していただきます。
■具体的には…
・半導体の微細化に伴い、マスク検査においても、高分解能で高速の検査装置が必要となります。電子線検査装置は従来
の検査装置よりも高感度の検査が可能となります。電子線検査装置の新規事業において、検査ソフトウェアの開発・設
計業務に携わって頂きます。
・DUVマスク検査装置において、顧客ニーズに沿った既存機能の改善と新機能の実装に必要なソフトウェア開発・設計業
務を担当していただきます。
応募資格
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- 必須
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・Linux環境でC/C++を含む言語を使用したソフトウェア開発の経験がある方。
- 歓迎
-
・機器制御を伴うソフトウェアの開発経験がある方。
・SEMI規格準拠のソフトウェア開発経験がある方。
・組み込み系のファームウェアの開発経験がある方。
・英語での技術的なコミュニケーションができる方。
雇用形態
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・正社員(試用期間6ヵ月)
勤務地
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・本社:神奈川県横浜市
・受動喫煙対策:屋内全面禁煙
・転勤:なし
勤務時間
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・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)
年収・給与
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想定年収450万円 ~ 650万円 ※ご経験・スキルを考慮のうえ決定
【昇給/賞与】
・昇給 年1回
・賞与 年2回:7月、12月(昨年度実績 5.42ヶ月)
待遇・福利厚生
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【各種手当】
・時間外手当
・役職手当
・家族手当
・通勤交通費(全額)
【福利厚生/その他】
・厚生年金
・健康保険(東芝健康保険組合)
・雇用保険
・労災保険
・介護保険
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度「カフェポイント」
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
休日休暇
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・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、
最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上
会社概要
社名
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非公開
事業内容・会社の特長
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【事業内容】
2002年に東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社・独立して創業いたしました。
・電子ビームマスク描画装置
・エピタキシャル成長装置
・マスク検査装置
の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売
【企業の強み】
同社は、半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーの1社として世界中のお客様にご愛用いただいています。
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