設計・開発エンジニア(機械・メカトロ)
【装置性能の精度評価・研究開発】■東芝デバイス&ストレージ社株式会社の100%子会社■※転勤なし
の転職・求人情報はすでに掲載終了しております。(掲載期間12月12日~12月25日)
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掲載時の募集要項(掲載期間:2024/12/12 ~ 2024/12/25)
設計・開発エンジニア(機械・メカトロ)
【装置性能の精度評価・研究開発】■東芝デバイス&ストレージ社株式会社の100%子会社■※転勤なし
海外展開あり(日系グローバル企業)
海外出張
転勤なし
土日祝休み
募集要項
募集背景
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株式会社ニューフレアテクノロジーは、2002年に東芝機械株式会社から半導体装置事業を継承して創業いたしました。
以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置を開発・提供し、半導体産業の発展に貢献してまいりました。
今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。
同社は、半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。
2020年4月東芝デバイス&ストレージ社株式会社の100%子会社となりました。
仕事内容
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■装置性能の精度評価・研究開発
【業務内容】
◎下記の業務を担当していただきます。
・先端のMBM描画装置の開発において先端メトロロジー装置を使ったMBMの精度評価
・精度評価結果から次世代測定器の性能への仕様としてのフィードバック
◎具体的には
〇担当:精度メンバー
・EBM/MBMの精度評価
・EBM/MBMの精度評価に必要なレイアウト作成
・描画結果の定量的評価:開発へのFB、トラブルシューティング
・新規評価手法の開発
【職場や職務の魅力】
・自社の半導体製造装置や使用している計測器やレジストなどを通じて、半導体業界の最先端技術に触れながら、自らの能力の向上を図れます。
・若手や経験が浅くても、能力があれば開発の中心として活躍できます。
・自らの意見や反対意見についても委縮することなく発言出来、またその意見を取り入れて開発を進めています。
・世界をまたにかけた活躍ができます。
応募資格
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- 必須
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・半導体製造装置他精密機器の開発経験、操作経験、各種測定器のデータ解析経験
・海外出張が可能な方
- 歓迎
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・測定結果の統計処理ができる方。
(例えば画像処理したデータを定量的に解析する力)
雇用形態
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・正社員(試用期間6ヵ月)
勤務地
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・本社:神奈川県横浜市
・受動喫煙対策:屋内全面禁煙
・転勤:なし
勤務時間
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・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)
年収・給与
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想定年収600万円 ~ 800万円 ※ご経験・スキルを考慮のうえ決定
【昇給/賞与】
・昇給 年1回
・賞与 年2回:7月、12月(昨年度実績 5.42ヶ月)
待遇・福利厚生
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【各種手当】
・時間外手当
・役職手当
・家族手当
・通勤交通費(全額)
【福利厚生/その他】
・厚生年金
・健康保険(東芝健康保険組合)
・雇用保険
・労災保険
・介護保険
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度「カフェポイント」
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
休日休暇
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・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、
最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上
会社概要
社名
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非公開
事業内容・会社の特長
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【事業内容】
2002年に東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社・独立して創業いたしました。
・電子ビームマスク描画装置
・エピタキシャル成長装置
・マスク検査装置
の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売
【企業の強み】
ニューフレアテクノロジーは、半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーの1社として世界中のお客様にご愛用いただいています。
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