研究・開発(化学・素材・食品・衣料)
研究開発職(一般から主任クラス)(コロイド/界面化学/高分子化学)
掲載期間:24/11/22~24/12/05求人No:GREF-GR200262W
NEW研究・開発(化学・素材・食品・衣料)

研究開発職(一般から主任クラス)(コロイド/界面化学/高分子化学)

海外展開あり(日系グローバル企業) 上場企業 大手企業 英語力が必要 土日祝休み

募集要項

仕事内容
弊社主力の半導体シリコンウェハー向け研磨材の研究開発をお任せ致します。ナノレベルでの表面加工を実現する上で界面における化学的な挙動を理論的に解き明かし性能向上を実現することが求められております。
◇研磨スラリーの組成設計
・材料の選定および配合の最適設計を、化学的視点(ミクロ、マクロ挙動)に基づき推進。
・材料選択、最適配合設計を統計的手法を用いて効率的に実施。
・開発活動を推進する上で、必要評価技術を見極め、新たな評価視点を導入。
・サプライヤーとの共同開発。
◇文献、特許調査、特許出願
・上記材料選択及び挙動理解に有用な文献を自身で調査し、開発活動を促進させる。又、開発成果について知財化検討を実施する。
◇営業部門と協力し開発成果物の顧客展開、顧客課題解決のための現地での技術的支援
◇社内関係部署と協力連携し、開発品の量産移管

※当社の主力事業である半導体シリコンウェハー向け研磨材の研究開発を行います。
既存製品のマイナーチェンジをすることで満足せず、未解明の原理・機構を解明し、有機、無機の広範な化学知見に裏づけされた新規技術・新規製品の開発に取り組みます。
お客様の技術ニーズに迅速に応えるため、定期的にお客様との技術打合せも実施します。

(変更の範囲)当社業務全般
応募資格
必須
◇大学卒以上
◇コロイド化学、界面化学、高分子化学のいずれかの高い知見(同分野での研究開発経験3年以上※)
◇文献、特許調査、特許出願経験
◇英語力(目安:TOEIC500以上※文章の読み書き、簡単な会話を英語で行うことに抵抗の無い方)

<尚可条件>
・実験計画法、統計学、プログラミング(データサイエンス)の知見
・界面、レオロジー、高分子などの評価手法、評価機器に関する知識
・顧客向けの研究開発経験

<歓迎条件>
・溶媒への固体分散・エマルジョンや固液界面処理にかかわる材料開発経験
・スラリーの組成開発
・半導体、電子デバイス関連の材料開発経験(研磨材、洗浄剤、めっき液等)
・チームをリードし、開発テーマを達成に導いた経験
・海外のお客様や海外グループ会社従業員と英語で会話可能な語学力
雇用形態
正社員
試用期間6ヶ月(条件の変更なし)
ポジション・役割
一般~主任クラス
勤務地
岐阜県各務原市
(変更の範囲)本社及び海外子会社の各事業所および労働者の自宅(リモートワークの場合)
勤務時間
8:00-17:00
年収・給与
主任クラス年収600-700万円+残業手当別途支給
一般クラスは別途ご提示
待遇・福利厚生
各種社会保険完備(健康・厚生年金・厚生年金基金・雇用・労災)
社員食堂完備(1食180円)、独身寮・家賃補給金制度(社内規程有)、退職金制度(確定拠出年金制度有)、従業員持株制度、財形貯蓄制度、発明報奨金制度、育児休暇制度、介護休暇制度、LTD(長期所得補償保険)制度 他
休日休暇
年間休日127日
完全週休2日制(土・日)、祝祭日、夏季、年末年始
有給休暇(初年度10日間付与)、メモリアル休暇(年間2日間)、特別休暇、慶弔休暇

会社概要

社名
非公開
事業内容・会社の特長
シリコンウェハー、半導体デバイス、ハードディスクの超精密研磨材
ナノレベルの表面加工材料で世界トップクラスの実績と技術を持つ化学材料メーカー
パウダー(微粒子)とサーフェス(表面への化学修飾)分野で独自の技術を保有しており、特に半導体分野向け精密研磨材が主力。(Iotや人工知能時代に不可欠である半導体産業の成長を支えている)半導体基盤であるシリコンウエハー基盤向け製品は世界シェア88%。
設立
1953
従業員数
800

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グローバルリファイン株式会社
厚生労働大臣許可番号:13-ユ-304885紹介事業許可年:2011年1月
設立
2010年10月
資本金
500万円
代表者名
代表取締役 川野辺 晃生
従業員数
法人全体:8名

人紹部門:8名
事業内容
・有料職業紹介(人材紹介・転職支援)
・人材採用に関わるコンサルティング業務
・人材採用、人材募集代行業務
厚生労働大臣許可番号
13-ユ-304885
紹介事業許可年
2011年1月
紹介事業事業所
東京都千代田区神田
登録場所
本社
〒101-0043 東京都千代田区神田富山町21番地 神田FKビル4階
ホームページ
https://www.g-refine.co.jp
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