研究開発＜半導体材料の重合プロセス（DSA）＞

東京応化工業

海外展開あり（日系グローバル企業）上場企業大手企業英語力が必要土日祝休み

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募集要項

仕事内容: 半導体材料の重合プロセス＜自己組織化リソグラフィー(DSA)＞の研究開発をご担当いただきます。

【具体的には】
■顧客要望を受けた新規高分子化合物の設計、合成、特性基礎評価
■大学や協業コンソーシアムとの共同研究への参画
※能力や適正次第では、顧客と直接議論し、顧客要望や潜在的課題を元に素材設計に落とし込みを行う業務などの実施可能性もあります。
【DSAとは】
ポリマー（ブロック共重合体）の分子鎖が互いに反発し合う性質を利用し高度に組織化されたナノ構造を形成する技術。
参考資料：https://www.tok-pr.com/products/structure-forming-material/DSA.html

応募資格

必須: 【必須要件】※以下の全てを満たす方
■高分子化合物合成実務経験（リビングアニオン重合、リビングラジカル重合などの制御重合）
■英語でのコミュニケーションに苦手意識がないこと

【歓迎要件】
■界面化学、薄膜に関する知識

雇用形態: 正社員

勤務地: 神奈川県

勤務時間: 08:30 - 17:15（コアタイム：10:00 - 15:00）

年収・給与: 550万円～600万円(経験能力考慮の上優遇)
昇給1回、賞与2回

待遇・福利厚生: 【保険】
健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金
【諸手当】
通勤手当、住宅手当、家族手当、時間外手当、深夜勤務手当
【待遇・福利厚生】
寮・社宅、退職金、社員持株、住宅援助金制度

休日休暇: 年間121日／（内訳）完全週休2日制（土日祝）、夏期休暇、年末年始、有給休暇、慶弔休暇、ゴールデンウィーク、創立記念日、出産休暇

会社概要

社名: 東京応化工業

事業内容・会社の特長: 【概要・特徴】
創業85年以上、フォトレジストに強みを持つ化学メーカー。ディスプレイの製造に必要な有機感光性樹脂フォトレジストなどの化学材料や、半導体用・液晶パネル用製造装置などの各種プロセス機器、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売を行なっています。同社製フォトレジストは世界シェア約25％。最も細い5ナノメートルの線を描ける「EUV用フォトレジスト」のシェアは約45％とトップを獲得しています。世界シェア2トップに位置します。
今後も最先端エレクトロニクス分野を中心に安定的な受注が見込まれています。

【技術力】
「フォトリソグラフィ」を同社のコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を推進。半導体用ネガ型フォトレジストや、国内初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発を行うほか、半導体プロセス機器・液晶画面用製造機器も開発しており、国内外でトップクラスのシェアです。また、ライフサイエンス関連製品の開発にも取り組んでおり、医療・診断・創薬の分野で注目されているバイオチップの製造において、構造体形成、基板接合に対応する感光性材料や表面処理材料を提供しています。

【研究開発】
国内の研究施設では、原料研究から装置開発まで、最先端技術の研究・開発を行なっています。近年、半導体の3次元化に用いられる薬品並びに装置開発や積層化技術に取り組むなど、高性能・高機能な製品の開発や生産性の高い製造方法の開拓に注力しています。また、環境負荷を配慮した製品や製造方法の研究にも積極的に取り組んでいます。