募集要項
- 仕事内容
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【仕事内容】
同社で扱う半導体洗浄装置のプロセス技術開発業務を担当いただきます。
【詳細】
・半導体洗浄装置におけるウェット洗浄プロセスや、ウェットエッチング技術の性能・機能向上のため、半導体基板上の微細パターンの制御や、エッチングプロセスを研究し、反応等のメカニズムを解明することにより、半導体洗浄装置の基礎技術開発を行う
・上記をベースに、先端半導体プロセスの課題を解決する新たな機構・材料・プロセス手法を提案し、洗浄装置へ実装する
・半導体洗浄装置の基礎技術開発において、プロセス研究開発テーマのプロジェクトリーダー業務を担当。4～6人程度のチームを率い、技術的な計画立案と実行をリーディングする。
- 応募資格
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- 必須
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【必須経験】
・半導体/FPD工程のプロセス技術開発の経験をお持ちの方
・グループリーダー経験もしくはそれに準ずるご志向をお持ちの方
・化学、物理系の修学または実務経験
【歓迎条件】
・洗浄プロセス、ウェットエッチングプロセスの実務経験者
・半導体工学（材料・基礎物性、デバイス、プロセス）およびその製造プロセスの知識
・表面観察SEM/TEMの知識
・表面解析XPS/SIMS/EDS/EELS、他FTIR/XRD/GCMS等の知識
【言語】
TOEIC 470点以上
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 京都府
- 年収・給与
- 667～885万円
