募集要項
- 募集背景
- 増員
- 仕事内容
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【パソナキャリア経由での入社実績あり】【職務内容】
フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価
※下記キーワードに関連するご経験をお持ちの方は積極的にご応募ください!
<キーワード>
半導体、微細加工、リソグラフィ、フォトレジスト、ArF、KrF、EUV、EB、感光性、光反応、フォーミュレーション
- 応募資格
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- 必須
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※下記いずれかのご経験をお持ちの方※
■フォトレジストの研究開発の経験があり、先端半導体リソグラフィに精通していること
・フォトレジストの研究開発(ArF, EUV向け)
・フォトレジストの処方(フォーミレーション)、物性評価(特にプロセス適性)、ポリマー/感光剤(PAG)等の設計・合成、分子またはプロセスシミュレーション
※フォトレジストの開発経験がなくても、下記の経験があればOKです
■フォトレジスト周辺素材:BARC(反射防止膜、アンダーレイヤー)、SOH(スピンオンハードマスク)等の処方/物性評価
- 歓迎
- 応募資格をご覧下さい
- フィットする人物像
- 応募資格をご覧下さい
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 神奈川県
- 勤務時間
- 08:30~17:00
- 年収・給与
- 700万円~1300万円
- 休日休暇
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完全週休二日(土日) 夏季休暇、年末年始休暇、慶弔休暇
有給休暇10~20日