募集要項
- 募集背景
- 事業拡大のため
- 仕事内容
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世界に影響を与えるグローバルメーカー!給与水準が高く、福利厚生も充実です!【職務概要】
1.プロセス開発及び能力構築:
シリコン光マイクロナノ半導体デバイスの製造プロセス開発をリードし、成膜、フォトリソグラフィ、エッチングなどのプロセスを含む。内部、業界の良質なリソースを組み合わせて、先端的な光デバイスマイクロナノ製造プラットフォーム能力を構築し、キー技術の突破と競争力の持続的な向上を実現し、光マイクロナノ製品の商業的成功をサポートする
2.洞察と協力:
産業動態と技術発展傾向を洞察し、業務シーンと新技術トレンドに合わせて技術企画と革新を行う。地域の優勢資源を拡大し、様々な形態を通じて、オープン、コンプライアンス、ウィンウィンの技術協力エコシステムを構築する
3.人材プールの構築:
人材をひきつけ、育成し、未来に向かって持続発展可能な光マイクロナノ製造プロセス研究人材プールを形成し、チームを率いて重要難点のプロセス技術を研究し、突破する。
【業務内容変更の範囲】
同社業務全般
- 応募資格
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- 必須
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【必須】
1.半導体デバイスの原理と製造プロセスに精通し、フォトリソグラフィ、ドライエッチング、ウェットプロセス、PVD/CVDコーティングなどの光マイクロナノ半導体材料の応用と製造プロセス開発に精通している。10年以上の実務経験がある。
2.光マイクロナノ半導体デバイスの故障解析能力を備え,且つ迅速にプロセス改善方案を制定することができる。
【尚可】
1.仕事の言語として英語を使用でき、コミュニケーションとチームワークのスキルが高い。
2.英文雑誌への寄稿や特許出願経験のある専門家が優先的に考える。
3.物理学、電子工学、電気工学、光電、材料またはその他の関連分野の学士号以上。
- 歓迎
- ※活かせる経験については上記「応募資格」欄に併記しております
- フィットする人物像
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- 雇用形態
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雇用形態:正社員
契約期間:無期
試用期間:有(3ヶ月)
- 勤務地
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千葉県船橋市鈴身町488-19
各線「北習志野」駅より車で20分
勤務地変更の範囲:本社及び全国の事業場、支社、営業所
- 勤務時間
- 9時00分~18時00分
- 年収・給与
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年収:1300万~2000万程度
年俸制:月額1083333円
給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇
賞与:年1回以上
昇給:業績に応じて年1回以上
- 待遇・福利厚生
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通勤交通費全額支給、退職金制度、医療保険制度
喫煙情報:敷地内禁煙
- 休日休暇
- 完全週休2日制(土・日)、祝日、夏季休暇、年末年始休暇、有給休暇、育児、介護休暇、慶弔休暇
- 選考プロセス
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人事面接(1次) →部門担当面接(2次) →社長面接(3次) →内定
※状況により変更になる場合あり