事業企画
急募!横浜勤務【事業企画】半導体製造装置専業メーカー
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の転職・求人情報はすでに掲載終了しております。(掲載期間3月5日~3月18日)

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掲載時の募集要項掲載期間:2024/03/05 ~ 2024/03/18)
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急募!横浜勤務【事業企画】半導体製造装置専業メーカー

募集要項

募集背景
事業の海外展開が拡大していることに伴い、それに対応するための経営・組織強化を図るため。

仕事内容
エピタキシャル成長装置における 事業計画の立案、中長期的な需要予測、技術アライアンスなどをお任せいたします。
以下の業務を行っていただきます。
1.事業計画の立案及び遂行、課題の検証、改善指針の策定。
2.予算の検討、およびその予算執行状況の確認・管理、特に主要部品・消耗部品における中長期需要予測・
  供給対応・在庫管理業務(PSI管理)
3.業務提携、技術提携、共同開発等の検討、締結に係る業務。

【職務の魅力】
・装置技術部は、化合物半導体のエピタキシャル成長の開発・生産を行っています。電気自動車で使用される
 充電器や、通信技術の5G、6Gなどの基地局はエピタキシャル成長装置で製造されるパワー半導体がなければ
 急速充電あるいは高速通信ができず、また省エネ、脱炭素推進が可能なものとして注目をされております。
・当社のエピタキシャル成長装置は最先端かつ技術の高さで競合他社と差別化ができており、非常に製造困難な
 8インチSiCを製造可能な装置であるため、世界的に有名な海外半導体メーカーから強い引き合いを頂いています。
・この今後確実に伸びる市場において、如何に効率的に事業を発展させるかは、市場予測に基づく事業計画に
 大きく依存しています。
・世界の先端パワー半導体メーカー、およびサプライヤとの密な接点を持ちながら、エピタキシャル成長装置事業の
 発展の中に身を置くことで、パワー半導体の発展を自分のものとして頂くことができます。

【仕事環境】
・リモートワーク:有
・部署の平均残業時間:約20時間/月
応募資格
必須
下記のいずれかに該当する方。
・製造業における事業企画の経験がある方。
・製品開発でプロジェクトリーダなどを務めた経験のある方。
・対外的な組織と共同開発などを行い、開発計画を推進した経験がある方。
歓迎
・予算管理などの経験がある方。
・半導体製造装置関連に就業経験がある、又は半導体製造装置関連の企業と協業したことがある方。
・英語での技術的なコミュニケーションができる
募集年齢(年齢制限理由)
57才位までの方 (長期勤続によりキャリア形成を図るため)
雇用形態
正社員
勤務地
本社(横浜市内)
勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)
年収・給与
・年収:1000万~1500万円前後を想定しています。
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします
待遇・福利厚生
【社会保険】厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険
【福利厚生】・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金・財形制度・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度・教育研修制度 ほか
【手当】
・時間外手当、役職手当、家族手当、通勤交通費(全額)
休日休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等・年間休日125日以上
選考プロセス
・書類選考 ⇒ 一次面接 ⇒適性検査 ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
・適性検査:SPI 他
・面接形態:一次(原則WEB面接)、二次(原則対面面接)
・面接官:一次(人事採用担当、職場責任者)、二次(部門責任者、部門役員、人事責任者、人事役員)

会社概要

社名
非公開
事業内容・会社の特長
【事業内容】
半導体デバイスの微細化・高機能化に必要な電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、
エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売。
【特長】
・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。当社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。
・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や、電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から実用化の段階に入ってまいりました。
・これからも高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに提供することで、当社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を果たして参ります所存です。
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