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急募!横浜勤務【輸出管理関連実務/該非判定責任者】半導体製造装置専業メーカー
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急募!横浜勤務【輸出管理関連実務/該非判定責任者】半導体製造装置専業メーカー
の転職・求人情報はすでに掲載終了しております。(掲載期間11月7日~11月20日)

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掲載時の募集要項掲載期間:2023/11/07 ~ 2023/11/20)
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急募!横浜勤務【輸出管理関連実務/該非判定責任者】半導体製造装置専業メーカー

募集要項

募集背景
事業の海外展開が拡大していることに伴い、それに対応するための組織強化を図るため。

仕事内容
〇下記の業務を担当していただきます。
・輸出管理関連実務/該非判定業務において必要な技術文書の作成
 └輸出する製品が経済産業省が定めるリスト規制のどこに当たる技術かの確認や
  パラメーターシート(該非判定表)の作成
  ※パラメーターシートは技術担当者が作成する場合あり
  ※日々対応する該非判定は十数件~数十件で、1件あたり数分で終わるものが
   ほとんどですが、場合により様々な技術的な確認を要するものは 半日かかることもございます。
・出荷管理(貿易関係書類作成は含みません)
・関連法令(外国為替及び外国貿易法、米国規制(EAR)等)改定時の貨物/技術の調査
 └輸出管理における国内外の法・規則改定は別部署より共有があり、
  その法・規制改定情報をもとに、事業として影響を受ける範囲がないかや、
  製品の保守パーツで規制に該当するものがないかなどを技術的に確認。
  規制の対象になるものがあった場合、回避方法の検討を実施。
・輸出管理/出荷管理に関する社内問合せ対応
 └輸出管理にかかわる他部署(法・規制・環境など)との連携や、
  出荷においては社内営業・物流担当者との連携が発生するなど、
  ほとんどの部署との密なコミュニケーションが求められます。
・上記業務の効率化、改善提案等
・その他、技術管理業務

【業務で使用するツール】
上記輸出・出荷管理業務はグループ会社共通のシステムを使用しており、
さらなる業務の効率化に向けた取り組みを進めております。
【入社後お任せする業務・キャリアパス】
技術に関する該非判定責任者になるためには、管理職であることが必要なため、
入社後は管理職を目指して、約1~2年間、該非判定に必要な機械・電気・ソフトなどの
技術的な知識や、当社輸出管理の仕事の流れをOJTキャッチアップいただきます。
輸出管理・該非判定のご経験がない方でも、しっかり0から育成させていただきます。
応募資格
必須
【いずれか必須】
・メーカでの輸出管理経験(該非判定業務経験歓迎)をお持ちの方
・機械・電気・ソフトのいずれかの技術に関する業務経験もしくは知識をお持ちの方
・安全保障輸出管理関連業務の実務経験者。
歓迎
・半導体製造装置関連、もしくは、産業機械での知識
・一般財団法人安全保障貿易情報センター(CISTEC)の実務能力認定試験の資格をお持ちの方は尚可。
・社内の技術関係者と業務関連のコミュニケーションが取れること。
 それを通じて、EB装置の関連技術を習得していけること。
募集年齢(年齢制限理由)
53歳位までの方 (長期勤続によりキャリア形成を図るため)
雇用形態
正社員
勤務地
本社(横浜市内)
勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)
年収・給与
・年収:750万~1000万円前後を想定しています。
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします
待遇・福利厚生
【社会保険】厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険
【福利厚生】・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金・財形制度・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度・教育研修制度 ほか
【手当】
・時間外手当、役職手当、家族手当、通勤交通費(全額)
休日休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等・年間休日125日以上
選考プロセス
書類選考 ⇒ 一次面接 ⇒適性検査 ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
・適性検査:SPI 他
・面接形態:一次(原則WEB面接)、二次(原則対面面接)
・面接官:一次(人事採用担当、職場責任者)、二次(部門責任者、部門役員、人事責任者、人事役員)

会社概要

社名
非公開
事業内容・会社の特長
【事業内容】
半導体デバイスの微細化・高機能化に必要な電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、
エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売。
【特長】
・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。当社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。
・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や、電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から実用化の段階に入ってまいりました。
・これからも高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに提供することで、当社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を果たして参ります所存です。
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