アプリケーション開発エンジニア(制御・組み込み系)
ソフト開発設計(リーダークラス)
アプリケーション開発エンジニア(制御・組み込み系)

ソフト開発設計(リーダークラス)
の転職・求人情報はすでに掲載終了しております。(掲載期間7月4日~7月17日)

※ 掲載時の募集要項はページ下部よりご確認いただけます。
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掲載時の募集要項掲載期間:2023/07/04 ~ 2023/07/17)
アプリケーション開発エンジニア(制御・組み込み系)

ソフト開発設計(リーダークラス)

海外展開あり(日系グローバル企業) 大手企業 転勤なし 土日祝休み

募集要項

募集背景
マスク検査装置に関連する各種ソフトウェアの開発に必要な中核人材または後継人材の確保を目的とした募集となります。
仕事内容
【業務内容】
〇下記の業務を担当していただきます。
・電子線マスク検査装置の検査ソフトウエアの開発・設計業務
・DUVマスク検査装置の検査ソフトウエアの開発・設計業務
・上記マスク検査装置の機器制御・通信ソフトウェアの開発・設計業務
・欠陥検査アルゴリズムのソフトウェア実装及び検証業務
※入社時はスキル、経験を考慮して上記業務のいずれかを担当していただきます。

【職場や職務の魅力】
・半導体の微細化に伴い、マスク検査においても、高分解能で高速の検査装置が必要となります。電子線検査装置は従来の検査装置よりも高感度の検査が可能となります。電子線検査装置の新規事業において、検査ソフトウェアの開発・設計業務に携わって頂きます。
・電子線検査装置は、電子光学系や電気系などの様々な分野の技術が総合的に必要となるため、各分野の専門家と仕事を進めて行くことでスキルアップを図る事が可能です。
・また、最先端の検査技術に触れる事が出来るため、様々な技術的知見を得る事が出来ます。
・また、DUVマスク検査装置においては、顧客ニーズに沿った既存機能の改善と新機能の実装に必要なソフトウェア開発・設計業務を担当できます。
応募資格
必須
【MUST】
・Linux環境でC/C++を含む言語を使用したソフトウェア開発の経験がある方。
・大卒以上

*半導体製造・検査装置におけるソフトウェア開発の経験がある方歓迎

歓迎(WANT)

【WANT】
・機器制御を伴うソフトウェアの開発経験がある方。
・SEMI規格準拠のソフトウェア開発経験がある方。
・組み込み系のファームウェアの開発経験がある方。
・英語での技術的なコミュニケーションができる方。
募集年齢(年齢制限理由)
~54歳くらいまで (長期勤続によりキャリア形成を図るため)
雇用形態
正社員
ポジション・役割
ソフト開発設計(リーダークラス)
勤務地
神奈川県横浜市磯子区 (JR新杉田駅)
勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)
年収・給与
700万円 ~ 1000万円
待遇・福利厚生
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします
・賞与:年2回:7月、12月(昨年度実績 5.42ヶ月)

・厚生年金、健康保険(健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険
・時間外手当、役職手当、家族手当、通勤交通費(全額)
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度「カフェポイント」
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
休日休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上
選考プロセス
・書類選考 ⇒ 一次面接 ⇒適性検査 ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
・適性検査:SPI 他
・面接形態:一次(原則WEB面接)、二次(原則対面面接)
・面接官:一次(人事採用担当、職場責任者)、二次(部門責任者、部門役員、人事責任者、人事役員)

会社概要

社名
非公開
事業内容・会社の特長
・2002年に大手メーカーから半導体装置事業を継承して創業いたしました。以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置を開発・提供し、半導体産業の発展に貢献してまいりました。
・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。
・半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。
・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から実用化の段階に入ってまいりました。
・これからも高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに提供することで、弊社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を果たして参ります。
設立
2002年
資本金
65億
売上高
400億
従業員数
726名
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