生産技術・製造技術・エンジニアリング(電気・電子)
横浜勤務【検査装置製造のプロダクトマネージャー候補】フルフレックスタイム制・在宅勤務制度有
生産技術・製造技術・エンジニアリング(電気・電子)

横浜勤務【検査装置製造のプロダクトマネージャー候補】フルフレックスタイム制・在宅勤務制度有
の転職・求人情報はすでに掲載終了しております。(掲載期間11月25日~12月8日)

※ 掲載時の募集要項はページ下部よりご確認いただけます。
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掲載時の募集要項掲載期間:2022/11/25 ~ 2022/12/08)
生産技術・製造技術・エンジニアリング(電気・電子)

横浜勤務【検査装置製造のプロダクトマネージャー候補】フルフレックスタイム制・在宅勤務制度有

募集要項

募集背景
光学検査装置の生産及び生産計画立案業務に必要な中核人材または後継人材の確保を目的とした募集となります。
仕事内容
【業務内容】
〇光学検査装置の製造技術業務を担当していただきます。具体的には
・光学検査装置の製作、生産業務
・光学検査装置の生産計画の立案、実行業務
・生産関連会社との折衝、管理

【職場や職務の魅力】
・半導体の微細化に伴い、マスク検査及びウェハの検査に置いても、高分解能で高速の検査装置が必要となっており、
 弊社光学検査装置はそれを可能にした装置となります。新設された製造企画グループにて、光学検査装置の製作、
 生産計画の立案、実行に携わって頂きます。
・部内の様々な分野の専門家と仕事を進めて行くことで、光学検査以外の技術に関してもスキルアップを図る事が
 可能です。
・また、多岐にわたる協力会社と接する事で、最先端の要素技術に触れ、製品を作り上げる喜びも得る事が出来ます。
・海外での立上に参加したり、将来的には海外での勤務も可能です。


応募資格
必須
・生産機械の製造経験がある方。



歓迎
・半導体プロセスの知識がある方。
・光学知識のある方。
・生産機械の製造技術経験がある方。
・光学検査装置の設計・製造経験がある方。
・英語での技術的なコミュニケーションができる方。
募集年齢(年齢制限理由)
45才位までの方 (長期勤続によりキャリア形成を図るため)
雇用形態
正社員
勤務地
本社(横浜市内)
勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)
年収・給与
・年収:600万~700万円前後を想定しています。
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします
待遇・福利厚生
【社会保険】厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険
【福利厚生】・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金・財形制度・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度・教育研修制度 ほか
【手当】
・時間外手当、役職手当、家族手当、通勤交通費(全額)
休日休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等・年間休日125日以上
選考プロセス
・書類選考 ⇒ 一次面接 ⇒適性検査 ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
・適性検査:SPI 他
・面接形態:一次(原則WEB面接)、二次(原則対面面接)
・面接官:一次(人事採用担当、職場責任者)、二次(部門責任者、部門役員、人事責任者、人事役員)

会社概要

社名
非公開
事業内容・会社の特長
【事業内容】
半導体デバイスの微細化・高機能化に必要な電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、
エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売。
【特長】
・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。当社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。
・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や、電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から実用化の段階に入ってまいりました。
・これからも高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに提供することで、当社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を果たして参ります所存です。
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