募集要項
- 募集背景
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半導体用の定量、定性等の化学分析業務です。
半導体微細化技術の中核であるフォトリソグラフィーは現在、波長193nmのArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザー光により、線幅20nmパターンの露光を実現し、そのICは量産されております。このレーザー光だけでフォトリソグラフィー技術は成り立っているのではなく、実に多くのそしてそれらが全て予定された完成度の技術で成り立っています。
例えばレジスト剤を例に挙げると、その化合物は高解像度の要求により、分子が大きな低感度な高分子が求められます。
しかし、高分子になると分子鎖が絡まり大きな塊になり易く、逆に解像度を落としてしまいます。このため、その分子数や塊を物理的にフィルタリングする必要が求められています。
自社製品の多くは、このような二律背反的なニーズに対応する製品です。
今回は、半導体製造過程での液体に関係した部材(消耗品)である超精密フィルター関連の精度保証と歩留等課題解決を目的とした化学分析業務の管理職で、またグローバルなレベルにおいて、その用途においての精度的違いはあるものの技術的、製品的に整合性と統一性を維持させた業務推進です。
- 仕事内容
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今回の担当職種は、半導体製造を主に試験研究用も含む薬液及び精製に関する製品を対象とした、グローバルな分析ラボとも連携のある国内分析ラボマネージャー業務です。
業務的には、新規分析法の開発業務、グローバルなレベルでの分析法に関しての統一性や整合性の推進業務、そして日常的な業務の効率的な推進といった業務のマネージャーとしての業務です。
対象は、半導体製造と試験研究用の洗浄用超純水、フォトリソグラフィー用レジストや現像液や反射防止剤等、CMP用スラリー(研磨剤)を主に対象とした、ろ過、精製に関しての分析業務です。
現在20nmノードといった微細加工プロセスで製造されております半導体集積回路デバイス(IC)は、真空、気体、プラズマの環境下や常圧での各種の液体やゲルにより、物理的、化学的に製造されておりますが、その全てにおいて、コンタミレーションの数、形状(大きさ)が超高性能フィルターや精製機によりコントロールされております。
その一つでも崩れますと、億を超す微細素子からなるそのデバイス(IC)は、歩留だけでなく品質や信頼性に致命的な問題を惹起し、そのため全てのプロセスとその使用素材は、予定通りの完全性が求められております。
そのような製造環境で使用される、自社製品のフィルターやスラリーの性能保証のための分析です。
また、半導体技術は、量産と試験研究とが極めて接近し、量産におきましても新現象に対峙せざるを得ず、そのブレークスルーを目的とした原因究明と対応が随時求められ、十年一日の定常的な業務ではありません。そのため、その分析技術におきましても新規分析方法の開発等が求められ、非常にチャレンジングな業務です。
具体的には、半導体製造工場向け薬液ろ過、精製に関する製品を対象に、
・不純物等の分析・解析担当の分析ラボスタッフの指示、管理
・国内の社内営業、営業サポートや工場品質・検査他部門や海外の関連部門との折衝
・グローバルなレベルでの方針・確認に関してのミーティングとその推進業務
・新規分析や新規評価方法の開発
・製品の性能や清浄性の評価のための実験計画の作成から、実施、レポート、発表までの管理推進
・営業、開発、品証など他部門からの分析・評価依頼の調整やラボスタッフが円滑に業務推進するためのマネジメント
との事です。
- 応募資格
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- 必須
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・大卒以上(化学系、とりわけ有機化学系が望ましい)
・分析化学(定量分析・定性分析)、機器分析の実務経験者
・ラボ関連スタッフのマネジメント経験3年以上
・自社グループ内(主にアメリカ、アジア)の技術的な会議で英語でのコミュニケーションが可能なこと
・他部門とのコミュニケーションがとれ、円滑に業務を進められる方
・男女不問
- 歓迎
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・新規分析や新規評価方法の開発
・グローバルなレベルでの方針・確認に関してのミーティングとその推進業務
- 募集年齢(年齢制限理由)
- ・~50歳迄の方 (長期勤続によりキャリア形成を図るため)
- フィットする人物像
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・分析化学(定量分析・定性分析)、機器分析の実務及び管理経験
・ラボ関連スタッフのマネジメント経験
- 雇用形態
- 正社員
- 勤務地
- 東京都港区(※転勤無)
- 勤務時間
- 9:00~17:15
- 年収・給与
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750万円~950万円 ※あくまでも目安です。能力等によりそれ以上可能です。
昇給年1回、賞与年2回
- 待遇・福利厚生
- 健康保険 厚生年金 雇用保険 労災保険 通勤手当 残業手当 退職金
- 休日休暇
- 完全週休2日(土・日) 祝日 年末年始 有給休暇 慶弔 他