セールスエンジニア(電気・電子)
FAEリーダー候補
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FAEリーダー候補
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掲載時の募集要項掲載期間:2023/07/04 ~ 2023/07/17)
セールスエンジニア(電気・電子)

FAEリーダー候補

海外展開あり(日系グローバル企業) 大手企業 英語力が必要 転勤なし 土日祝休み

募集要項

募集背景
海外顧客に向けたマスク検査装置の受注が立て続けに決まり、将来的に装置の拡販が見込まれる。
顧客と技術(AE、FSE)の間に立つ、窓口業務/マーケティング業務を行う人材が急務に。
仕事内容
【業務内容】
下記の業務を担当していただきます。
〇顧客と社内部門をつなぐ、窓口業務
・装置立上げ計画案を技術部と共に作成、顧客への説明と折衝
・装置立上げ時における旗振り役/装置責任者、状況レポートの作成と顧客への説明/折衝、トラブル対応、装置検収を成功させる
〇マスク検査装置のマーケティング業務
・顧客の声(VOC)を集め、事業戦略/中期経営計画の立案に生かす
・半導体製造分野を俯瞰し、マスク検査装置の開発戦略を立てる


【職場や職務の魅力】
・コロナ禍を機に、半導体の分野が注目を集めている。日本においては、半導体製造の分野では世界シェアを落としているが、弊社の製品である製造/検査装置の市場においては、強いシェアを持っており、将来に渡って事業成長が可能な見込みになっている。
・グローバルな顧客を対象として、国際的な業務に携われる。特に、アジア、北米のビックカスタマーとのビジネスに取り組める。
・取り扱う装置は、細線化が進む半導体マスクを検査する装置で、最先端の検査技術に触れることができる。
応募資格
必須
【MUST】
・客先での半導体検査装置、製造装置等の装置立上げ経験がある方。
・英語会話力、読解力、資料作成能力がある方。
・大卒以上
歓迎
【WANT】
・装置立上げ時に、顧客と技術(AE、FSE)の間に立ち、インタフェースをとれる方。
・マスク検査装置の経験がある方。
・顧客への装置立上げ状況の報告資料などが作成できる方。
・日本のチームへの立上げ状況報告ができる方。
・英語による顧客とのコミュニケーション力。英語資料作成ができる方。
募集年齢(年齢制限理由)
~45歳くらいまで (長期勤続によりキャリア形成を図るため)
雇用形態
正社員
ポジション・役割
FAEリーダー候補
勤務地
神奈川県横浜市磯子区 (JR新杉田駅)
勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)
年収・給与
~ 900万円
待遇・福利厚生
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします
・賞与:年2回:7月、12月(昨年度実績 5.42ヶ月)

・厚生年金、健康保険(健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険
・時間外手当、役職手当、家族手当、通勤交通費(全額)
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度「カフェポイント」
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
休日休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上
選考プロセス
・書類選考 ⇒ 一次面接 ⇒適性検査 ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
・適性検査:SPI 他
・面接形態:一次(原則WEB面接)、二次(原則対面面接)
・面接官:一次(人事採用担当、職場責任者)、二次(部門責任者、部門役員、人事責任者、人事役員)

会社概要

社名
非公開
事業内容・会社の特長
・2002年に大手メーカーから半導体装置事業を継承して創業いたしました。以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置を開発・提供し、半導体産業の発展に貢献してまいりました。
・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。
・半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク(シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版)に高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして世界中のお客様にご愛用いただいています。
・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から実用化の段階に入ってまいりました。
・これからも高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに提供することで、弊社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を果たして参ります。
設立
2002年
資本金
65億
売上高
400億
従業員数
726名
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